机译:纳米级处理中的等离子体表面相互作用:通过硅选择性保护低k完整性和高k栅堆叠蚀刻
机译:纳米级ULSI器件制造中高级等离子体刻蚀工艺的等离子体表面相互作用:数值和实验研究
机译:纳米尺度半导体的低k材料的氟基等离子体蚀刻过程中的表面降解机理
机译:碳氟化合物等离子体中低k SiOCH的蚀刻机理以及对SiCH和SiO_2的选择性
机译:干法刻蚀过程中等离子体与表面相互作用的分子动力学模拟
机译:纳米级处理中的等离子体表面相互作用:通过硅选择性保留低k完整性和高k栅堆叠蚀刻。
机译:聚合物/富勒烯共混膜的选择性湿蚀刻用于表面和纳米形态控制的有机晶体管和灵敏度增强的气体传感器
机译:在添加氢的碳氟化合物(CF4 / Ar / H-2和C4F8 / Ar / H-2)等离子体中在Si上选择性刻蚀高k HfO2膜